今天廣州專利申請(qǐng)小編就為大家介紹一下申請(qǐng)發(fā)明專利所需文件：發(fā)明專利請(qǐng)求書(shū)；說(shuō)明書(shū)；權(quán)利要求書(shū)；說(shuō)明書(shū)摘要；有附圖的可同時(shí)提交說(shuō)明書(shū)附圖和摘要附圖。以上文件要求一式兩份。要求減緩各種專利費(fèi)用的可同時(shí)提交費(fèi)用減緩請(qǐng)求書(shū)二份。以上文件須是打印文字（采用4、小4或5號(hào)字的宋體、仿宋體打字或印刷，字跡為黑色，一定要清晰；紙張為A4的打印紙或復(fù)印紙；文章版心位置：距紙張的上邊和左邊留有2.5厘米的邊距，距右邊和下邊留有1.5厘米的邊距），并且一律采用專利局規(guī)定的表格格式。
（一）請(qǐng)求書(shū)的撰寫(xiě)：按照表格的內(nèi)容及提示填寫(xiě)。
（一）請(qǐng)求書(shū)的撰寫(xiě)：按照表格的內(nèi)容及提示填寫(xiě)。
（二）說(shuō)明書(shū)的撰寫(xiě)：按照發(fā)明或?qū)嵱眯滦兔Q、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造的目的、技術(shù)方案、有益效果、結(jié)合附圖做進(jìn)一步說(shuō)明、具體實(shí)施方式這些步驟逐一進(jìn)行論述。
（三）權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)：應(yīng)以說(shuō)明書(shū)為依據(jù)，分獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。當(dāng)有多項(xiàng)權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)以阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào)，一般情況下第1項(xiàng)權(quán)利要求即為獨(dú)立權(quán)利要求，余下為從屬權(quán)利要求，需要對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征做進(jìn)一步限定的，即為從屬權(quán)利要求。
1、獨(dú)立權(quán)利要求通常分前序部分和特征部分：
a.前序部分，寫(xiě)明要求保護(hù)的主題名稱以及與現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；
b.特征部分，使用"其特征是……"或類似的用語(yǔ)，寫(xiě)明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的獨(dú)到技術(shù)特征。前序部分與特征部分一起，構(gòu)成了該專利申請(qǐng)要求保護(hù)的范圍。
2、從屬權(quán)利要求的撰寫(xiě)包括引用部分和限定部分：
a.引用部分：寫(xiě)明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱；
b.限定部分：寫(xiě)明要求保護(hù)的附加技術(shù)特征。
（四）說(shuō)明書(shū)附圖的繪制：實(shí)用新型專利須要有附圖；發(fā)明專利一般有附圖，但如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術(shù)方案的，可以沒(méi)有附圖。
1、附圖可以采用多種形式：
a.對(duì)于機(jī)械領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以采用各種視圖反映產(chǎn)品的形狀和結(jié)構(gòu)。
b.對(duì)于電器領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以是電路圖、框圖、示意圖；
c.對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以用化學(xué)結(jié)構(gòu)式作為附圖；
d.對(duì)于方法發(fā)明，附圖可以是表示該方法各步驟的工藝流程圖。
2、附圖的要求：
a.附圖應(yīng)當(dāng)符合機(jī)械制圖國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，即應(yīng)當(dāng)使用繪圖工具（或電腦繪圖），用黑色墨水繪制，線條均勻清晰，圖面不著色，圖周圍不加框線，不要使用鉛筆圓株筆繪制，但附圖不用標(biāo)注比例和尺寸數(shù)據(jù)。
b.附圖的大小和清晰度，應(yīng)當(dāng)保證圖縮小到4×6厘米時(shí)，仍能清晰地分辨出圖中的各個(gè)細(xì)節(jié)，并符合照相制版的要求；
c.同一專利申請(qǐng)的幾幅附圖，可以繪制在同一張專用格式的紙上，并用阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào)，用"圖××"的形式來(lái)表示。
d.同一專利申請(qǐng)有多頁(yè)附圖的，應(yīng)用阿拉伯?dāng)?shù)字連續(xù)編寫(xiě)頁(yè)碼；
e.同一專利申請(qǐng)中使用的附圖標(biāo)記須前后一致，在說(shuō)明書(shū)中未提及的標(biāo)記不得在附圖中出現(xiàn)；
f.附圖中除必要的詞語(yǔ)外，不應(yīng)當(dāng)含有其它注釋。
（五）說(shuō)明書(shū)摘要的撰寫(xiě)：
a.摘要應(yīng)當(dāng)寫(xiě)明發(fā)明或者實(shí)用新型所屬的技術(shù)領(lǐng)域、需要解決的技術(shù)問(wèn)題、主要技術(shù)特征和用途。對(duì)申請(qǐng)實(shí)用新型的產(chǎn)品應(yīng)寫(xiě)出其形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合的特征。不應(yīng)寫(xiě)成廣告或單純產(chǎn)品的功能介紹；
b.摘要不應(yīng)加標(biāo)題，可以連續(xù)書(shū)寫(xiě)；
c對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明，摘要可以包括申請(qǐng)的化學(xué)式中能說(shuō)明發(fā)明特點(diǎn)的一個(gè)化學(xué)式。摘要也可以包括數(shù)學(xué)式或反應(yīng)式。
d.摘要不用分段，全文不得超過(guò)300字。
（六）摘要附圖的繪制：對(duì)于說(shuō)明書(shū)中有附圖的，應(yīng)單獨(dú)提交一幅從說(shuō)明書(shū)附圖中選出的、能說(shuō)明技術(shù)特征的一個(gè)附圖，來(lái)作為摘要附圖，附圖的大小和清晰度應(yīng)保證在該圖縮小到4×6厘米時(shí)，仍能清晰地分辨出圖中的各個(gè)細(xì)節(jié)。
以上就是關(guān)于申請(qǐng)發(fā)明專利所需文件的介紹，希望可以幫助到大家。如果您還有其他的問(wèn)題或疑問(wèn)歡迎咨詢我們的在線客服。
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